市場監(jiān)管總局批準(zhǔn)新建二維線紋基準(zhǔn)裝置
近日,市場監(jiān)管總局批準(zhǔn)新建二維線紋基準(zhǔn)裝置,填補我國校準(zhǔn)影像測量儀、光學(xué)顯微鏡等光學(xué)精密測量設(shè)備和高精度光刻機母版制造設(shè)備的二維線紋標(biāo)準(zhǔn)器的測量能力空白,核心技術(shù)實現(xiàn)完全自主可控。
二維線紋基準(zhǔn)裝置測量范圍為320mm×320mm,最優(yōu)測量不確定度僅28nm,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的1/2500。該基準(zhǔn)裝置主要特點是大范圍、微尺寸、多參量,可為二維尺寸、位置及形狀提供量值溯源,達到國際先進水平。該基準(zhǔn)裝置有助于解決亞微米、納米級光刻機母版的二維線紋“測不準(zhǔn)”的難題,為電子通信、軌道交通、航空航天、醫(yī)療設(shè)備等高端制造領(lǐng)域精密加工和測量設(shè)備提供技術(shù)支撐和保障。
近日,市場監(jiān)管總局批準(zhǔn)新建二維線紋基準(zhǔn)裝置,填補我國校準(zhǔn)影像測量儀、光學(xué)顯微鏡等光學(xué)精密測量設(shè)備和高精度光刻機母版制造設(shè)備的二維線紋標(biāo)準(zhǔn)器的測量能力空白,核心技術(shù)實現(xiàn)完全自主可控。
二維線紋基準(zhǔn)裝置測量范圍為320mm×320mm,最優(yōu)測量不確定度僅28nm,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的1/2500。該基準(zhǔn)裝置主要特點是大范圍、微尺寸、多參量,可為二維尺寸、位置及形狀提供量值溯源,達到國際先進水平。該基準(zhǔn)裝置有助于解決亞微米、納米級光刻機母版的二維線紋“測不準(zhǔn)”的難題,為電子通信、軌道交通、航空航天、醫(yī)療設(shè)備等高端制造領(lǐng)域精密加工和測量設(shè)備提供技術(shù)支撐和保障。
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